Optosys | ZEISS | Axio Imager Vario - Aufrechtes Mikroskop für die Untersuchung von Wafern und Fotomasken
OptoSys Optische Komponenten und Systemlösungen GmbH
Robert-Bosch-Straße
764293 Darmstadt
Deutschland
Phone/Telefon: +49 6151 44329
Mail: info@optosys.eu
http://optosys.eu/wp/
Details
Optosys | ZEISS | Axio Imager Vario - Aufrechtes Mikroskop für die Untersuchung von Wafern und Fotomasken
Das ZEISS Axio Imager Vario ermöglicht die präzise Analyse von Objekten wie kleinsten MEMS-Sensoren bis hin zu großen Flachbildschirmen. Durch das einzigartige Säulendesign bietet das Mikroskop eine außergewöhnliche Stabilität, die die Untersuchung von extrem großen Proben ermöglicht. Zusätzlich ist das Axio Imager Vario speziell für den Einsatz in Reinräumen zertifiziert, was es ideal für hochsensible Anwendungen macht.
Untersuchung großer Proben und Reinraumzertifizierung
Wafer und Fotomasken müssen oft unter strengen Reinraumbedingungen untersucht werden, um den hohen Anforderungen an Sauberkeit gerecht zu werden. Das Axio Imager Vario erfüllt diese Anforderungen durch seine Zertifizierung nach DIN EN ISO 14644-1 für Reinraumklasse 5. Dies entspricht der alten Klasse 100 gemäß FED STD 209E (1992).
Präzision im Fokus
Für die Analyse reflektierender Oberflächen mit niedrigem Kontrast kann das Axio Imager Vario mit einem hochpräzisen Hardware Auto Focus ausgestattet werden. Dieses System gewährleistet höchste Genauigkeit sowohl bei Auflicht- als auch bei Durchlichtanwendungen. Es erkennt und kompensiert automatisch Veränderungen der Fokusposition, sodass selbst große Proben stets exakt fokussiert bleiben.
Hardware Auto Focus für verschiedene Anwendungen
In der Materialforschung und industriellen Fertigung ist eine exakte Fokussierung unerlässlich. Mit dem Axio Imager Vario profitieren Anwender von einem Fokussystem, das eine maximale Tiefenschärfe von 0,3-fach sicherstellt und einen Fokusbereich von bis zu 12.000 µm bietet. Der Autofokus eignet sich für vielfältige Lichtanwendungen, darunter Auflicht, Durchlicht, Hellfeld, Dunkelfeld, Polarisationskontrast, Differentialinterferenzkontrast und Schrägbeleuchtung.