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ZEISS | Objektiv "Epiplan" IR 100x/0,9 Korr. (0-0,6) Si
Das Objektiv hat einen Arbeitsabstand von 0,35 mm bei einer Deckglasdicke von 0,3 mm Silizium.
Carl Zeiss Microscopy GmbH
ZEISS | Objektiv "Epiplan" IR 100x/0,9 Korr. (0-0,6) Si
Nicht mehr verfügbar.
| Artikelnummer | 442988-0000-000 |
|---|---|
| Vergrößerung | 100× |
| Numerische Apertur | 0,9 |
| Arbeitsabstand | 0,35 bei Deckglas 0,3 mm |
| Deckglasdicke | 0 - 0,6 mm |
| Objektivklasse | Epiplan |
| Immersion | Ohne Immersion |
| Gewinde | Gewinde M27x0.75 |
| Auflicht | Hellfeld, Fluoreszenz |
| Anwendung | Konfokale Mikroskopie, NLO-IR / 2 Photon |
| Korrektionsring | Korrektionsring |
| ZEISS Micro-Shop | https://www.micro-shop.zeiss.com/de/de/shop/objectives/442988-0000-000/Objektiv-Epiplan-IR-100x-0,9-Korr.-0-0,6-Si |
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HerstellerCarl Zeiss Microscopy GmbH
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Beschreibung
Das Objektiv ist speziell konzipiert für den infraroten Spektralbereich von 900 bis 1200 nm und für die IR-Backside-Inspection, d.h. die Beobachtung durch den Siliziumwafer hindurch. Es findet vorrangig bei 1064 nm (Nd-YAG-Laser) Verwendung am IR-LSM.